Home
For authors
Submission status

Archive
Archive (English)
Current
      Volume 110
      Volume 109
      Volume 108
      Volume 107
      Volume 106
      Volume 105
      Volume 104
      Volume 103
      Volume 102
      Volume 101
      Volume 100
      Volume 99
      Volume 98
      Volume 97
      Volume 96
      Volume 95
      Volume 94
      Volume 93
Search
VOLUME 99 | ISSUE 12 | PAGE 817
Анализ структуры и магнитных свойств интерфейса в многослойных наноструктурах (Fe/Si)N с применением поверхностно-чувствительного метода XMCD
Abstract
Представлены результаты исследования структурных и магнитных свойств наноструктур (Fe/Si)N, полученных при последовательном напылении на поверхность SiO2/Si(100) при температуре подложки 300 K. Измерения методом просвечивающей электронной микроскопии позволили определить толщины всех слоев Fe и Si. Магнитные свойства исследованы методом рентгеновского магнитного кругового дихроизма (XMCD) вблизи L3,2-краев поглощения Fe. Разделены орбитальный (ml) и спиновый (mS) вклады в полный магнитный момент железа. С использованием поверхностной чувствительности метода XMCD и модели интерфейса из немагнитной и ослабленной магнитной фаз, определены толщины магнитного и немагнитного силицида Fe на интерфейсах Si/Fe и Fe/Si.