Home
For authors
Submission status

Current
Archive (English)
Archive
   Volumes 61-80
   Volumes 41-60
   Volumes 21-40
   Volumes 1-20
   Volumes 81-92
      Volume 92
      Volume 91
      Volume 90
      Volume 89
      Volume 88
      Volume 87
      Volume 86
      Volume 85
      Volume 84
      Volume 83
      Volume 82
      Volume 81
Search
VOLUME 92 | ISSUE 3 | PAGE 177
Фотоуправляемая магниторезонансная пластичность γ-облученных кристаллов KCl:Fe
Р. Б. Моргунов

Учреждение Российской академии наук Институт проблем химической физики
142432 Черноголовка, Московская обл., Россия

Abstract
Обнаружено фотоуправляемое резонансное уменьшение микротвердости, вызванное приложением взаимно перпендикулярных постоянного и микроволнового магнитных полей в γ -облученных кристаллах KCl:Fe. Установлено, что магнитопластичность кристаллов γ -KCl:Fe, не подвергавшихся фотоэкспозиции, обусловлена резонансным влиянием магнитных полей на два типа примесных центров: 1) центры, содержащие ионно-вакансионные пары Fe2+-vc, 2) центры, содержащие ионы Fe+. Освещение кристаллов γ -KCl:Fe F-светом (с длиной волны λ = 500-600 нм) приводит к перестройке спектра электронного парамагнитного резонанса, детектируемого по изменению микротвердости. Влияние F-света на спектры магниторезонансной пластичности заключается в подавлении спектров ионов Fe2+-vc с эффективными g-факторами 7.0 и 3.5 в результате их рекомбинации с F-электронами и восстановления до центров Fe+ c g-факторами 2.2 и 4.1.


Download PS file (GZipped, 173.5K)  |  Download PDF file (262.3K)


Список работ, цитирующих данную статью, см. здесь.

List of articles citing this article can be found here.